制版的質(zhì)量控制

印版的質(zhì)量直接影響印刷,在制版過程中要注意制版流程和RIP兩個環(huán)節(jié)

制版流程

制版流程分傳統(tǒng)制版和激光制版兩種類型,除菲林和雕版這一環(huán)節(jié),需配合RIP( Raster Image Processor,光柵圖像處理器)及對應(yīng)的硬設(shè)備外,其余各環(huán)節(jié)基本一致。對各環(huán)節(jié)進(jìn)行數(shù)據(jù)化管理對穩(wěn)定印版至關(guān)重要。

 

背曝光:背曝光的目的是通過UVA光使版材的感光樹脂層進(jìn)行聚合反應(yīng),形成穩(wěn)定的底基。制版時(shí)浮雕(浮雕=版厚一底基厚)過低會使油墨堆積在網(wǎng)點(diǎn)之間,浮雕過高又會使凸起的網(wǎng)點(diǎn)受到支撐不夠,易產(chǎn)生斷點(diǎn)現(xiàn)象或網(wǎng)點(diǎn)擴(kuò)大較嚴(yán)重。通常浮雕控制在整個版材厚度的百分之45左右,如果條件允許應(yīng)該進(jìn)行印刷測試,取不堵墨時(shí)低的浮雕值為佳,這樣能提高印版的壽命又降低印刷過程中網(wǎng)點(diǎn)的擴(kuò)大

 

主曝光:主曝光的目的是通過UVA光使圖文部分的感光樹脂層進(jìn)行聚合反應(yīng)形成圖文。主曝光不足會使圖文和底基接合不夠,浮雕的坡角過陡,細(xì)小陽圖文易折斷;而主曝光過量又會使浮雕的坡角過平,網(wǎng)點(diǎn)間的凹陷不夠,易產(chǎn)生堵墨現(xiàn)象般對細(xì)小陽圖文加長曝光時(shí)間,對細(xì)小陰圖文減少曝光時(shí)間。

洗版:洗版是為了洗去未曝光的樹脂,配合主曝光形成圖文凸起。為不破壞曝光后的樹脂,應(yīng)使用盡量少的洗版時(shí)間。洗版時(shí)間受版材類型、浮雕厚度、洗版溶劑濃度和溫度等影響,因此為有較好的洗版效果,應(yīng)在標(biāo)準(zhǔn)測試的基礎(chǔ)上略延長洗版時(shí)間烘干:烘干的目的是使洗版過程中的溶劑揮發(fā),不同的版材、版厚、洗版溶劑、洗版時(shí)間和烘干溫度都對烘干時(shí)間的要求不一樣。烘干不足會使洗版溶劑殘留在印版內(nèi),在印刷過程中揮發(fā)到印版表面,影響油墨的傳遞,但只要烘干到一定程度后,加長烘干時(shí)間對印版也無害,因此在制版過程中對烘干時(shí)間的要求并不非常嚴(yán)格,只需在足夠的時(shí)間之上就可以了。

 

后曝光:后曝光的目的是通過UVA再一次對印版進(jìn)行曝光,使印版表面進(jìn)一步固化來保證耐印率。適當(dāng)延長曝光時(shí)間對印版有益無害

去黏:去黏是使用UVC光源對印版進(jìn)行曝光,時(shí)間不足會使印版太黏影響油墨轉(zhuǎn)移時(shí)間過長會使印版產(chǎn)生龜裂,但一般版材對UVC的寬容度較大。

 

RIP計(jì)算

RIP是將平面排版文件中的信息轉(zhuǎn)換為后端硬件設(shè)備所能接受的文件格式,并完成加網(wǎng)運(yùn)算。由于印刷過程中不可能做到完全還原網(wǎng)點(diǎn),即RIP后的網(wǎng)點(diǎn)經(jīng)菲林曝光沖洗或經(jīng)激光雕版后,在菲林上或印版上網(wǎng)點(diǎn)會略變大或變小,需要在RIP前端完成制版過程中進(jìn)行網(wǎng)點(diǎn)擴(kuò)大補(bǔ)償,稱為“線性化”。在進(jìn)行線性化測試之前,除穩(wěn)定照排機(jī)的曝光設(shè)定和沖洗條件外。一般需完成梯尺文件并輸出,針對柔印過程中網(wǎng)點(diǎn)高擴(kuò)大率及高光網(wǎng)點(diǎn)易折斷的特點(diǎn),柔性版印刷可復(fù)制的小網(wǎng)點(diǎn)大約為百分之2,圖像高光部分設(shè)置不能低于2個百分點(diǎn);柔性版上